KIA20N40H功率MOSFET是使用KIA先進的平面條紋DMOS技術生產的。這項先進的技術經...KIA20N40H功率MOSFET是使用KIA先進的平面條紋DMOS技術生產的。這項先進的技術經過特別定制，可最大限度地減少導通電阻，提供卓越的開關性能和換向模式。這些器件非...
光刻步驟類似于圖案繪制的過程。而半導體的生產制造，可以理解為是重復的堆疊和...光刻步驟類似于圖案繪制的過程。而半導體的生產制造，可以理解為是重復的堆疊和切割。利用光刻工藝，在想要切割的位置繪制圖案。
當Vg從0V開始上升的時候，p襯底中的多子空穴會被趕離柵區從而留下負電荷（空穴...當Vg從0V開始上升的時候，p襯底中的多子空穴會被趕離柵區從而留下負電荷（空穴無法移動，實際上是電子的移動，電子從襯底被抽取上來，與p型半導體中的受主雜質例如...
襯底偏置效應，就是當襯底（body/substrate）和源（source）之間的電勢差Vbs不...襯底偏置效應，就是當襯底（body/substrate）和源（source）之間的電勢差Vbs不為零的時候，所產生的一些效應的統稱。
KNH3625A具有低導通內阻，抗沖擊能力強，可靠性高的特點，是一款能夠滿足工業級...KNH3625A具有低導通內阻，抗沖擊能力強，可靠性高的特點，是一款能夠滿足工業級的場效應管型號，能夠高效提升電路品質。
如圖所示，Q9 柵極（G）通過100k電阻上拉到12V，源級（S）直接連接至12V電源側...如圖所示，Q9 柵極（G）通過100k電阻上拉到12V，源級（S）直接連接至12V電源側，漏極（D）連接到被控設備，被控設備兩端并聯二極管，用于關斷設備后，釋放被控設備...
